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改变光刻胶材料格局,制造从此不同

深圳市邦得凌触控显示技术有限公司

深圳市邦得凌触控显示技术有限公司成立于2018年11月,是一家自主研发并生产负型光刻胶(也称为负型光阻剂)的高科技企业。创始团队不仅具备卓越的光刻胶配方和树脂原材料的设计开发能力,而且掌握底层元器件的加工制造技术,具有实现先进材料和先进制造一体化的双重创新基因。公司充分吸收日本特种感光高分子功能材料技术及本土纳米材料复合技术,多年来不断深耕于高分子黄光树脂合成及其各类负型光刻胶配方、纳米材料与光阻剂复合技术,在该领域具备国内前沿的研发水平,拥有多项发明专利。

本公司将以推出一款世界级新电容材料--纳米银线光阻剂开始,及其工控级可靠性导电膜,以满足显示触控领域新的发展需求。

其他项目,RGB彩色光阻剂在一些小众项目-宝马、奥迪等汽车装饰投影的CCD器件中持续供应。黑色喷涂型光阻剂在3D曲面手机盖板的黑色边框走线上供应。OC光刻胶在半导体和芯片封装做干法蚀刻和chiplet工艺应用。

发明专利

公司产品

光刻胶新材料用于半导体、新型触控显示之负型光阻剂产品

技术团队

具备卓越的光刻胶配方和树脂原材料的设计开发能力

任广辅

内蒙古农业大学
微生物与免疫学理学士

薗二介

日本工程师
毕业于日本千叶大学材料科学系

郭金梁

教授,博导
清华大学化学系教授

李博士

西安理工大学 印刷专业硕士;
华南理工大学 电子材料印刷 博士

冯博士

北京大学理学士
中国科学院化学研究所博士

汤俊松

联合创始人

孙旭亚

联合创业人
深圳高层次专业人才

技术副总

某上市公司技术副总
国内最早的光刻制程专家

有机纳米银线光阻剂

用于触控显示电容透明导电新材料

1.客户及目标市场

该项目在为莱宝高科等上市公司客户供应触摸屏制程用材料过程总结出的新型透明导电材料。


2.技术位于科技树顶端

该项目使用目前世界先进的光阻技术和黄光制程工艺来实现触摸屏Pattern,彻底改变了镀膜蚀刻和激光雕刻等低效率工艺,节省了其2/3的工序,并增加了产品性能。


3.产品技术改变行业格局

该项目的顺利实施有望在未来将触控技术直接做到LCD面板或OLED表面,并且改变目前的该种On-Cell技术的良率不达标问题。


本项目纳米银线光阻复合材料,利用光刻显影工艺制作电容触摸屏替代镀膜时刻工艺。

  • 银灰色低粘度液体

  • 3-5cp

  • 乙酸丁醋、PMA、DBE混合溶剂

  • 透光率高,导电率均匀

  • 用于柔性面板On-Cell制程

  • 技术领先,低成本环保

技术新闻

11月5日,光阻式银纳米线生产商深圳市邦得凌触控技术有限公司(下文简称:邦得凌)宣布获得数千万元Pre-A轮融资。本轮融资由星河资本领投,深圳中科华盛、青岛世纪联凯、青岛君领昇鑫跟投,将主要用在光阻银纳米线及其导电膜中试生产线的建设,以及邦得凌光刻胶产品的量产。
  • 052021-11
    11月5日,光阻式银纳米线生产商深圳市邦得凌触控技术有限公司(下文简称:邦得凌)宣布获得数千万元Pre-A轮融资。本轮融资由星河资本领投,深圳中科华盛、青岛世纪联凯、青岛君领昇鑫跟投,将主要用在光阻银纳米线及其导电膜中试生产线的建设,以及邦得凌光刻胶产品的量产。
  • 172020-10
    专注于光刻胶技术的深圳市邦得凌触控显示技术有限公司(以下简称“邦得凌)完成了数百万元的天使轮融资,由本翼科技领投,产业资本跟投。本轮融资将主要用于实验场地的投入和黄光工艺制程中试期间的研发到中试投入。
  • 202020-10
    光刻胶及相关高分子技术应用商“邦得凌”完成数百万元天使轮融资,由本翼科技领投,产业资本跟投。据了解,本轮融资将主要用于实验场地的投入和黄光工艺制程中试期间的研发到中试投入。
  • 112021-03
    光刻胶研发企业深圳市邦得凌触控显示技术有限公司现由于公司发展需要,面向社会招聘光刻胶研发工程师,和应用工程师以及市场专员。
光刻胶研发企业深圳邦得凌近日获悉,国家新型显示技术创新中心获得国家科技部批准组建,该中心由广东聚华新型显示研究院牵头申请,或将彻底改变中国乃至全球显示产业的发展走向。
  • 212021-03
    光刻胶研发企业深圳邦得凌近日获悉,国家新型显示技术创新中心获得国家科技部批准组建,该中心由广东聚华新型显示研究院牵头申请,或将彻底改变中国乃至全球显示产业的发展走向。
  • 062021-02
    我国光刻胶的研究始于20世纪70年代,最初阶段与国际水平相差无几,但由于种种原因,差距愈来愈大。发展至今,我国中低端光刻胶产品在全球占有一席之地,但高端光刻胶基本全部依赖进口。
  • 062021-02
    光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一,特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展,更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。光刻胶已经成为半导体领域的关键材料之一。我国自主的光刻胶产业发展,也是我国芯片产业自强打破国外垄断征程上的重要一环。
  • 162021-01
    光刻胶理论:什么是光刻胶?光刻胶是一大类具有光敏化学作用(或对电子能量敏感)的高分子聚合物材料,是转移紫外曝光或电子束曝照图案的媒介。

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